高真空蒸發(fā)鍍膜
該設(shè)備為方型室蒸鍍設(shè)備,可滿足用戶實現(xiàn)單質(zhì)膜,多層膜及鍍制復(fù)合膜的工藝要求。蒸鍍室是以電阻加熱的方式實現(xiàn)蒸發(fā)鍍膜功能的,它是在高真空條件下,通過加熱材料的方法,在需鍍襯底上蒸鍍各種金屬單層或多層膜,適用于實驗室制備金屬、氧化物、介質(zhì)、掃描電鏡制樣等,也可用作教學(xué)及生產(chǎn)線前期工藝試驗等,整套設(shè)備操作簡便,綜合功能多,擴(kuò)展空間大,適合及滿足院校的教學(xué)與科研